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半导体净化车间洁净度等级标准及要求？
半导体特性决定其制造过程必须有洁净度要求，环境中杂质对半导体的特性有着改变或破坏其性能的作用，所以在半导体器件生产过程中对什么都必须严格控制，杂质各式各样，如金属离子会破坏半导体器件的导电性能，灰尘粒子破坏半导体器件的表面结构等。
半导体器件生产环境要求很严，除了要求恒温恒湿外，对生产环境洁净度要求很严，按单位体积重规定的尘埃粒子数标准分成洁净度的等级。一般分为：10级、100级、1000级、10000级、100000级，国际标准IOS14644-1、国标GB50073-2013、美联邦标准中均有规定洁净室和洁净区内空气以大于或等于被考虑粒径的粒子最大浓度限值进行划分的等级标准。
电子产品性能、质量的提高和生产过程的微细化，日益要求生产环境具有一定的空气洁净度等级和控制无尘车间内工艺生产所需的各类高纯物质的供给质量，目前国内外还没有统 电子产品的空气洁净度等级或生产环境控制要求的统一 规定，各种电子产品的生产厂家依据其生产的产品品种、所采用的生产工艺技术、生产工艺设备、生产用原辅料以及无尘车间运行的实践经验确定设计建造无尘车间的空气洁净度等级（如下表格）。
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行业 分类 |
洁净度要求 用途（工艺） |
级别 |
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0.1um |
1000 |
10000 |
100000 |
10000 |
||||||
|
0.5um |
10 |
100 |
1000 |
10000 |
100000 |
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半导体行业 |
拉单晶 |
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扩散 |
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腐蚀、光刻、表面处理、金属蒸发 |
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组装试验 |
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原料 |
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研磨 |
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包装 |
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半成品贮藏 |
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